Elektrodeposisi Lapisan TiO2 untuk Aplikasi Lapisan Self Cleaning
Total View This Week0
Total View This Week0
Institusion
Universitas Andalas
Author
Agus, Rozani
Subject
QC Physics
Datestamp
2016-06-01 07:43:37
Abstract :
Lapisan TiO2 telah disintesis pada substrat besi yang terlapisi Nikel dan Kromium menggunakan prekursor TiCl3. Lapisan TiO2 disintesis dengan metode elektrodeposisi pada tegangan 3 V dan 4 V, dengan variasi kosentrasi TiCl3 0,1 hingga 1 M. Pola XRD menunjukkan bahwa lapisan TiO2 yang terbentuk berfasa anatase. Hasil SEM menunjukkan bahwa elektrodeposisi dengan TiCl3 0,4 M pada tegangan 3 V menghasilkan morfologi lapisan tipis TiO2 yang lebih merata dibandingkan dengan sampel-sampel yang lainnya. Hasil pendeposisian lapisan pada tegangan 4 V menghasilkan lapisan yang berwarna hitam. Dari pengukuran sudut kontak diketahui bahwa sampel bersifat hidrofobik dengan sudut kontak di atas 90°. Sampel dengan kosentrasi TiCl3 0,4 M dan tegangan 3 V memiliki lapisan TiO2 yang memiliki sifat self cleaning terbaik dengan sudut kontak rata-rata 104,3°.
Lapisan TiO2 telah disintesis pada substrat besi yang terlapisi Nikel dan Kromium menggunakan prekursor TiCl3. Lapisan TiO2 disintesis dengan metode elektrodeposisi pada tegangan 3 V dan 4 V, dengan variasi kosentrasi TiCl3 0,1 hingga 1 M. Pola XRD menunjukkan bahwa lapisan TiO2 yang terbentuk berfasa anatase. Hasil SEM menunjukkan bahwa elektrodeposisi dengan TiCl3 0,4 M pada tegangan 3 V menghasilkan morfologi lapisan tipis TiO2 yang lebih merata dibandingkan dengan sampel-sampel yang lainnya. Hasil pendeposisian lapisan pada tegangan 4 V menghasilkan lapisan yang berwarna hitam. Dari pengukuran sudut kontak diketahui bahwa sampel bersifat hidrofobik dengan sudut kontak di atas 90°. Sampel dengan kosentrasi TiCl3 0,4 M dan tegangan 3 V memiliki lapisan TiO2 yang memiliki sifat self cleaning terbaik dengan sudut kontak rata-rata 104,3°.
Download
book
BibTex
Latex, Jabref
cloud_download
Original Resource
url resource Institution
